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最佳答案：其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面.CVD装置由下列部件组成；反应物供应系统,气相反应器,气流传送系统.反应物多为金属氯化物,先被加热到一定温度,达到足
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最佳答案：这个问题也困扰我好久了!谢谢了!“热蒸发法是物理气相沉积,前体就是ZnO.CVD的前体一般是锌粉,在气流中有氧气反应生成ZnO,有时可能还用点催化剂,所以叫做化
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最佳答案：气相沉积法 化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料在PECVD和HDPCVD系统中有些方面还特别令人感兴趣是通过调节能量,偏压以及其
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最佳答案：楼主概念不对膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法.溅射镀膜过程中,在靶与基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体,这就是
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最佳答案：这是机理性的东西,CVD 法是在高温条件下分解含有C元素的原料气体,生成碳原子,甲基原子团等活性粒子,并在合适的工艺条件下,在基底材料上沉积出金刚石膜的方法.对
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最佳答案：我以前的学位论文是关于等离子体化学气相淀积的内容.我不知道你用的等离子体是低温等离子体,还是高温等离子体.如果是高温等离子体（高于1500摄氏度）,恐怕没有现成
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最佳答案：plasma enhanced chemical vapor deposition