三氟化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀 - 知识问答

三氟化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，无色．无臭，在潮湿空气中泄露会产生白雾．红棕色气体等现象，反应

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解题思路：由电子、电荷守恒可知反应3NF₃+5H₂O═2NO+HNO₃+9HF中，只有N元素的化合价发生变化，自身发生氧化还原反应，当有3molNF₃参加反应，生成2molNO，1molHNO₃，反应中氧化剂与还原剂的物质的量之比为2：1，结合方程式以及对应物质的性质解答该题．
A．由电子、电荷守恒可知反应3NF₃+5H₂O═2NO+HNO₃+9HF，横线处物质为NO，且a=3，b=5，c=2，d=1，e=9，故A正确；
B．当有3molNF₃参加反应，生成2molNO，1molHNO₃，反应中被氧化与被还原的原子的物质的量之比为1：2，故B错误；
C．若反应中生成0.2molHNO₃，N元素化合价由+3价升高到+5价，则反应共转移0.4mole^-，故C错误；
D．只有N元素的化合价发生变化，NF₃是氧化剂，也是还原剂，故D错误；
故选A．
点评：
本题考点：氧化还原反应．
考点点评：本题考查氧化还原反应知识，侧重于氧化还原反应反应的概念和计算的考查，题目难度不大，注意反应中元素化合价的变化为解答该类题目的关键．

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