PCl 3 可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分性质如下 (1)下图是实验室制备PCl 3 的装置(部分仪器

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  • (1)①排尽装置中的空气,防止生成的PCl 3与空气中的O 2和H 2O反应;

    ②氯气流量;

    ③蒸馏

    (2)①步骤3:迅速加入足量(NH 4) 3BO 3溶液;

    步骤4:立即用Na 2S 2O 3标准溶液回滴过量的碘,在将近终点时加入3mL淀粉溶液,继续滴至终点(溶液蓝色褪去)

    (或