解题思路：（1）常温下，二氧化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和水；
（2）氢氧化亚铁和氧气是反应生成氢氧化铁；
（3）氢氧化铝溶解在氢氧化钠溶液中生成偏铝酸钠和水；
（4）向硅酸钠溶液中通入过量的CO2，生成硅酸沉淀和碳酸氢钠；
（5）将铜片放入在FeCl3溶液中，生成氯化亚铁和氯化铜．
（1）常温下，二氧化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和水，反应的化学方程式为：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O，
故答案为：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O；
（2）氢氧化亚铁和氧气是反应生成氢氧化铁，反应的化学方程式为：4Fe（OH）2+O2+2H2O=4Fe（OH）3，
故答案为：4Fe（OH）2+O2+2H2O=4Fe（OH）3；
（3）氢氧化铝溶解在氢氧化钠溶液中生成偏铝酸钠和水，反应的离子方程式为：Al3++4OH-=AlO2-+2H2O，
故答案为：Al3++4OH-=AlO2-+2H2O；
（4）向硅酸钠溶液中通入过量的CO2，生成硅酸沉淀和碳酸氢钠，反应的离子方程式为：SiO32-+2CO2+2H2O=H2SiO3↓+2HCO3-，
故答案为：SiO32-+2CO2+2H2O=H2SiO3↓+2HCO3-；
（5）将铜片放入在FeCl3溶液中，生成氯化亚铁和氯化铜，反应的离子方程式为：2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+，故答案为：2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+．
点评：
本题考点： 离子方程式的书写．
考点点评： 本题考查了化学方程式、离子方程式的书写，题目难度中等，试题侧重基础知识的考查，注意掌握化学方程式、离子方程式书写的方法及注意问题．