解题思路：A、根据二氧化硅晶体中1mol硅原子形成4mol硅氧键计算；
B、1L1mol/L的NaI和NaClO溶液中含有1mol溶质碘化钠和1mol次氯酸钠，溶液中含有水电离的氢离子和氢氧根离子；
C、氯化铵溶液中水的电离程度增大，溶液中的氢离子是水电离的；
D、根据氧气和臭氧中含有的氧原子的质量计算出氧原子的物质的量及含有的质子数．
A、1mol二氧化硅中含有1mol硅原子，1mol硅原子形成了4mol硅氧键，含有的Si-O键键数为4NA，故A错误；
B、溶液中含有溶质碘化钠1mol、次氯酸钠1mol，由于溶液中存在水电离的氢离子和氢氧根离子，所以阴阳离子总数都大于2mol，故B错误；
C、氯化铵溶液中铵离子水解，促进了水的电离，溶液中的氢离子来自水的电离，所以水电离的氢离子浓度为1×10-5NAmol/L，2L溶液中中含有的氢离子数目为2×10-5NA，故C错误；
D、16g氧气和臭氧的混合物中含有16g氧原子，含有1mol氧原子，1mol氧原子含有8mol质子，质子总数为8NA，故D正确；
故选D．
点评：
本题考点： 阿伏加德罗常数．
考点点评： 本题考查阿伏加德罗常数的有关计算和判断，题目难度中等，注意氯化铵溶液中的氢离子是水电离的；注意明确好以物质的量为中心的各化学量与阿伏加德罗常数的关系，要准确弄清分子、原子、原子核内质子中子及核外电子的构成关系．