三氟化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀 - 知识问答

三氟化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体.它无色、无臭，在潮湿的空气中能发生下列反应：3NF3+5H2O

1个回答

解题思路：反应3NF₃+5H₂O═2NO+HNO₃+9HF中，只有N元素的化合价发生变化，自身发生氧化还原反应，当有3molNF₃参加反应，生成2molNO，1molHNO₃，反应中氧化剂与还原剂的物质的量之比为2：1，结合方程式以及对应物质的性质解答该题．
A．只有N元素的化合价发生变化，自身发生氧化还原反应，故A错误；
B．当有3molNF₃参加反应，生成2molNO，1molHNO₃，反应中被氧化与被还原的原子的物质的量之比为1：2，故B错误；
C．若反应中生成0.2molHNO₃，N元素化合价由+3价升高到+5价，则反应共转移0.4mole^-，故C错误；
D．反应中生成NO，与氧气反应生成红棕色的NO₂，同时生成硝酸，易与空气中的水蒸气结合形成白雾，故D正确．
故选D．
点评：
本题考点：氧化还原反应的计算．
考点点评：本题考查氧化还原反应知识，侧重于氧化还原反应反应的概念和计算的考查，题目难度不大，注意反应中元素化合价的变化，为解答该类题目的关键．

相关问题