PECVD制程中,镀上去的膜是气体打碎成离子形成的离子膜?

1个回答

  • 你可以这么理解,但是注意是等离子和离子的区别,形成的是等离子体

    PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜.为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

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